キーワード
etching plasma
部局
発行年
1995 - 1999
1
キーワード
control of ECR plasma
1
electron cyclotron resonance
1
etching plasma
1
microwave electric field
1
uniform plasma
1
wave propagation
1
種類
学術雑誌論文
1
部局
大学院理工学研究科（工学）
1
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山口大学学術機関リポジトリYUNOCA
Measurement of a three-dimensional distribution of microwave electric field in electron cyclotron resonance plasmas
Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes 36 巻 7B 号
作成者
: Furuse Muneo | Tamura Hitoshi | Watanabe Seiichi | 福政 修
出版者
: 応用物理学会
発行日
: 1997-07
関連作成者
福政 修
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