電子サイクロトロン共鳴マイクロ波プラズマを利用したスパッタ成膜装置(ECRスパッタ装置)において、独自のパラメータであるマイクロ波電力に着目し、これを活用してCo-Cr-Ta/Ti垂直磁気ディスクの高性能化を試みた。プラズマ生成室に投入するマイクロ波電力を増加させると、生成されるプラズマ密度が増加し、成膜速度を高まること、成膜中に基板を照射するArイオンの量が増加することが明らかになった。Co-Cr-Ta膜の作製において、マイクロ波パワーを成膜初期には高パワーとし、途中からは低パワーに変更するという制御を行うことによって、グレインが微細で、磁気特性および記録特性に優れた垂直磁気ディスクをパワー一定とした従来よりも高速に作製できることを見出した。

反応性ECRスパッタ法を用いることにより、3000 Oe程度の高い垂直方向抗磁力と、垂直磁気異方性を示すCo含有酸化鉄薄膜メディアを、室温から150℃の低温で作製できる。このメディアの熱緩和特性、記録特性および再生電圧の時間変化について調べた。その結果、作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアは、市販のMPテープと同等の良好な熱安定性を有し、20 Gb/in^2級長手ハードディスクと同程度のD_<50>および高記録密度領域での信号の時間減衰を示すことが明らかとなった。

反応性ECRスパッタ法を用いて150℃の基板温度で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアを、2種類の方法によって酸化処理を行い、その磁気特性および記録特性におよぼす効果について調べた。その結果、ECRプラズマを照射することによって酸化処理を施したCo含有酸化鉄薄膜メディアは、平滑な表面を維持したまま磁気特性を向上させることができ、MIGヘッドによる記録・再生において市販の20Gb/in^2級長手ハードディスクと同程度のD_<50>を示すことがわかった。